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Low-K晶圓切割保護液-y羽杰科技


晶圓切割保護液

? ? ? ?羽杰科技:Low-K晶圓切割保護液,可形成致密的網狀分子排布,從而可在晶圓上形成致密的膜層,阻隔了Low?K晶圓激光切割過程中產生的熱量及熔渣。同時在隨后刀輪切割中可包裹住切割產生的硅屑,起到懸浮分散顆粒及清洗晶圓的作用。因此該水基切割保護液可以同時應用于Low?K晶圓的激光切割保護和刀輪切割保護。

產品參數:?

成分:水溶性樹脂、表面活性劑、紫外吸收劑、有機清潔劑、保濕劑、抗氧劑、緩蝕劑等。?

外觀:透明液體?

粘度:40-60?

產品優勢:

1.對激光切割適應性好, 提高產品良率和加工效率,節約設備及物料成本;

2.防噴濺,防止切割碎屑噴濺破壞晶圓表面,避免激光設備透鏡被飛濺物損壞;

3.晶圓激光切割保護液 YJ-2707 具有良好的散熱、阻熱、冷卻功能,防止保護膜熱固著, 易于清洗;

4.切割熱影響區小,切縫隙窄,節省材料;

5.具良好的潤滑性能,邊線平直,無裂紋,切割面平整光滑無毛刺;

6.無切割粘渣,工件表面光潔無劃傷,不需再進行輔助清理;

7.阻止芯片表面的金屬線路在高溫下被氧化;

8.操作方便,易加工,易清潔,對人體與環境友好。?

晶圓切割保護液

激光切割液參考使用方法: 在待切的產品上通過旋涂的方式將激光切割保護液涂覆成膜,?

旋涂參數為:1500~2000rpm,30sec, 加速度 ACC:1000;?

旋涂后在室溫下保證在 3h 內進行激光切割,否則可能因為保護膜揮發過多,導致清洗 不凈。后續采用紫外光、紅外及綠光激光進行切割。切割后采用二流體清洗,清洗時間為 2-5min,以不殘留保護膜為準。

?其中,紫外光切割參數:355nm 的紫外光切割兩道,劃片速度分別為 200mm/s 和 300mm/s,功率為 1.5W。?

紅外光切割參數:1064nm 的紅外光切割一道,劃片速度為 220mm/s,功率為 8W。?

綠光切割參數:532nm 的綠光切割三道,兩側的切割頻率、功率和速度分別為 1500KHz、 5W 和 200mm/s;中間的切割頻率、功率和速度分別為 1200KHz、4W 和 180mm/s。?

注意事項:未使用完的保護液須將桶蓋擰緊,避免水分、油質、灰塵混入, 影響加工品質。 包裝規格:1 加侖/桶,20L/桶 貯存條件:存放于陰涼透風處,避免日曬雨淋。

本文標題:Low-K晶圓切割保護液-y羽杰科技

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