羽杰科技：砷化鎵清洗劑YJ-WG400是一款專門針對硅片，晶圓，半導(dǎo)體，光學(xué)玻璃類材質(zhì)打磨或研磨后吸附在金屬表面細(xì)小顆粒物的水基型清洗劑，配合超聲波清洗，能將吸附在金屬表面的顆粒物有效剝離，同時具有一定的除垢能力，能有效的出去表面的細(xì)微顆粒。

針對性去除硅片，晶圓，半導(dǎo)體，光學(xué)玻璃等表面的顆粒、有機物、金屬離子等污染物的水基清洗劑，清洗劑中的活性物質(zhì)可以吸附在硅片表面，使其長期處于易清洗的物理吸附狀態(tài)，并在表面形成保護(hù)層，防止顆粒的二次吸附，能有效提高外延或擴散工序的成品率。

行業(yè)痛點：半導(dǎo)體制造的清潔挑戰(zhàn)

在半導(dǎo)體制造過程中，0.1微米級別的顆粒污染就可能導(dǎo)致芯片良率下降40%。傳統(tǒng)清洗劑存在三大技術(shù)瓶頸：

1.殘留風(fēng)險：有機溶劑易在晶圓表面形成靜電吸附層

2.金屬污染：含Cl離子的清洗劑導(dǎo)致MOS器件閾值電壓漂移

3.環(huán)保壓力：含氟表面活性劑不符合RoHS 2.0新規(guī)

YJ-WG400核心技術(shù)突破

羽杰科技通過三年研發(fā)攻關(guān)，攻克了半導(dǎo)體清洗領(lǐng)域的三大難題：

雙重吸附體系

物理吸附（改性硅烷基團）+ 化學(xué)吸附（螯合劑）協(xié)同作用，顆粒去除效率提升37%

pH智能緩沖系統(tǒng)

獨創(chuàng)pH值自適應(yīng)技術(shù)（12±0.2），在40-70℃寬溫域保持穩(wěn)定清洗效能

納米級殘留控制

表面張力降至28mN/m，配合超聲波可實現(xiàn)Ra≤0.5nm的超潔凈表面

六大核心優(yōu)勢

高效潔凈:科學(xué)配方去除0.3μm以上顆粒，配合超聲波實現(xiàn)3D立體清洗，清洗良率可達(dá)99.5%以上；

安全環(huán)保：通過RoHS 2.0、REACH法規(guī)認(rèn)證，VOC含量＜100g/L；

高效節(jié)能：清洗時間縮短40%，節(jié)水35%（循環(huán)使用≥5次）；

兼容性強：適配硅/碳化硅/GaAs等多種基板，不腐蝕ITO導(dǎo)電膜；

智能工藝：自動配比系統(tǒng)（1:10-30可調(diào)），溫度/時間數(shù)字化控制；

成本優(yōu)勢

單片清洗成本較進(jìn)口產(chǎn)品降低38%

操作流程：

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應(yīng)用領(lǐng)域：

用于半導(dǎo)體芯片、硅片、元器件、薄膜技術(shù)中的玻璃和金屬表面浸漬、噴淋、超聲波的清洗。

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操作工藝:

??超聲波清洗：推薦兌水使用，最高兌水稀釋10-30倍；

??溫度：40-70℃；

??清洗時間：3-10分鐘，視情況可適當(dāng)縮短或延長清洗時間；

??使用方法：按固定比例將WG-400清洗劑與水混合攪拌均勻，加熱值設(shè)定溫度即可開始清洗；

??日常維護(hù)：根據(jù)清洗產(chǎn)品數(shù)量及臟污程度，及時補充清洗劑原液，定時檢查純水設(shè)備及清洗設(shè)備過濾芯；

??更換周期：常規(guī)清洗1-3天左右更換，重負(fù)荷清洗每天更換；更換周期最長不得超過5天。

質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)：

產(chǎn)品符合中華人民共和國水基清洗劑標(biāo)準(zhǔn)JB/T 4323-2019；

產(chǎn)品符合歐盟ROHS標(biāo)準(zhǔn)。

產(chǎn)品包裝、貯存和運輸：

塑料桶包裝： 25KG/桶，非危險品易于儲存和運輸；

貯存期兩年，不能露天存放，防止 ?日曬雨淋；

未使用完的清洗劑須將桶蓋擰緊，避免水分及雜質(zhì)混入。

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技術(shù)支持體系

1.7×24小時服務(wù)熱線：18300002010

2.遠(yuǎn)程診斷系統(tǒng)：通過IoT設(shè)備實時監(jiān)測清洗參數(shù)

3.定制化解決方案：針對不同F(xiàn)ab廠提供專屬配方開發(fā)

立即行動：聯(lián)系我們獲取《半導(dǎo)體清洗工藝白皮書》及最新報價單

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本文標(biāo)題：砷化鎵清洗劑-羽杰科技

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